高周波誘導加熱方式でCZ法による単結晶成長装置
るつぼを使用せずに酸化物結晶の育成を行う装置。
本装置は、アルミナチューブ及び、ヒータを縦型に配置し、アルミナチューブ内を不活性ガス又は酸化大気雰囲気で、高温に加熱し試料を合成するための抵抗加熱装置です。
本装置は、二珪化モリブデンヒータを4面縦型に配置し、高温下でかつ、広範囲にワークを加熱することができる装置です。
本装置は、カーボンヒータユニット、試料移載ユニットを装着しており不活性ガス雰囲気で、高温に加熱し試料を合成するための抵抗加熱装置です。
新しい形状の半導体熱処理炉用ヒータ。 ウェハの表面温度均一性に優れ且つ、昇降温特性にも優れたヒーター
1800STシリーズ 真空中又は、ガス雰囲気中での製品の熱処理加工を行い高品質の製品を生産
低抗加熱ヒータ及び炉内構成品を縦型に配置し、石英チューブ内にて還元処理（脱ガス）を行う装置です。
ステンレス製チャンバー（内面テフロンコート）の内部に抵抗加熱ヒータ及び断熱材を設置し、試料を大気中にて加熱し、焙焼を行う装置です。
本装置は左右対称式の熱風循環タイプの熱処理を目的とした装置であります。
円筒状ヒータを縦方向に３ゾーンに配置し、各ゾーンを個別に加熱制御することができる熱処理装置です。
高純度N2を最大400℃まで加熱。設定温度を自由に設定可能。フェールセーフ機能も搭載した商品
脱着作業が極めて簡単。配管内の温度の均一は勿論、脱着作業の効率化を第一に考えた商品。
力率「1」を実現。同時に高調波の大幅低減も可能にする電力調整ユニット。
